光刻机的制造难度主要在于三大关键设备：光源、双工件台、光刻机镜头。

而在光源方面，毫无疑问z国的世界最强的那个，这个结论从激光武器z国明显领先m国便能得出。

一个小小的光刻机光源，完全难不倒z国的科研人员。

双工件台就不太容易了，据说asml研发的基于磁悬浮平面电机的双工件台产品，其掩模台的运动控制精度做到了2纳米，大大提升了芯片加工的精度和效率。

如此先进的双工件台，外国专家曾傲慢地说：“全世界没有第二家机构能做出来。”

然而仅仅过去五年不到，z国菁华大学的一个科研团队，研制的运动精度控制在2纳米左右的双工件台，成功通过了整机验收。

关键技术指标达到了国际同类光刻机双工件台技术水平。

双工件台也被z国人攻克了。

最后就是光刻机镜头，近些年光学镜头领域进步飞速，甚至有家民用卫星公司制造的光学卫星，分辨率就达到了1米、0.5米，地面的航母、军舰、车辆一览无余，甚至可以拍摄正在起飞的飞机，拍摄火箭发射画面，清晰度令人吃惊。

民用光学卫星的表现已如此夸张，军用当然更不得了。

这反映出的，是z国在光学镜头领域的进步。

光刻机镜头自然也难不倒z国的科研人员。

所以光源、双工件台、光刻机镜头这三大用于制造光刻机的核心设备，z国全部掌握。

这也正是asml公司对z国放开光刻机销售的原因……严厉的封锁，光刻机领域，只会导致z国以更快的速度取得突破。

兔子被逼急了，会要你的命。

而z国的光刻机至今没有赶上国外最先进水平，一方面是市场份额被人牢牢把控；其次走相同的技术路线，会不可避免地会侵犯到asml的知识产权，引发专利官司。

再加上一些关键设备的禁售。

国产的光刻机发展始终不温不火。

即便如此，为了绕开国外的专利壁垒，z科院光电所另辟蹊径，研制了一款全新的光刻机——