第九三九章 光刻机的现状

掩膜板主要是玻璃片,上面刻有预想的电路,然后放在机器上曝光,刻到硅片上看效果。

光刻机光源从六十年代初到八十年代中期,汞灯已用于光刻,其波长分别为436n(g线)、405n(h线)和365n(i线)。

随着半导体行业对更高分辨率(集成度更高和速度更快的芯片)和更高产量(更低成本)的需求,基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求,krf(248 n)和arf(193 n)准分子激光器应运而生,对镜头、掩膜版和光刻胶的要求更高。

随着芯片制程工艺的提升,光刻机成为半导体行业发展的关键设备。

虽然受到《日美半导体协议》的影响,日本半导体如今失去了美国市场,但代表世界光刻机最高水平的尼康光刻机还在不断进步,ii、ad 和h等半导体设备公司派业务代表,长期住在尼康半导体设备公司,翘首以盼最先进的光刻机出厂。

如今,尼康光刻机占据光刻机市场的40,垄断了高端光刻机市场,佳能光刻机占20,svg、gca和ultratal、&e、eaton和日立等光刻机公司,每家占据的市场份额都不到5。

《修罗武神》

日本光刻机设备公司在光刻机市场独占鳌头!

美国光刻机公司每况愈下。

重生者知道,前世光刻机高端市场被后起之秀asl垄断!

赢者通吃!

由于asl效益不佳,年年亏损,去年九月,飞利浦半导体公司将其持有的30asl股份,以2000万美元的价格转让给曙光投资公司,让曙光投资公司控股。